阿貝成像原理：
阿貝成像是指入射光經物平面發生夫琅和費繞射，在透鏡焦面（頻譜面）上形成一系列繞射光斑，各繞射光斑發出的球面次波在像面上相干疊加，形成像。
阿貝成像原理將成像過程分為兩步：
由阿貝的觀點來看，許多成像光學儀器就是一個低通濾波器，物平面包含從低頻到高頻的信息，透鏡口徑限制了高頻信息通過，只許一定的低頻通過，因此，丟失了高頻信息的光束再合成，圖像的細節變模糊。孔徑越大，丟失的信息越少，圖像越清晰。
阿貝成像原理的意義在於：
它以一種新的頻譜語言來描述信息，它啟發人們用改造頻譜的方法來改造信息。
換句話説，像平面上光場分佈和像的分辨率由物鏡收集多少繞射光來決定。最簡單情況是考慮一個振幅透過率週期變化的物體──光柵。
討論光柵在相干平面波照明下的成像問題。相干平面波被光柵繞射後，各繞射級次平面波有各自傳播方向，在物鏡後焦面上產生光柵的夫琅和費繞射圖樣，即物鏡起了變換透鏡作用，後焦面就是頻譜面。根據惠更斯－菲涅耳原理，在焦面上的這些繞射圖樣可以看成許多相干次波源，每個次波源的強度正比於該點的振幅。因此在像平面 ∑i上成像過程可以看成從這些次波源發出的光波互相干涉的結果，即所謂成像的兩次繞射過程。要得到一個逼真的像，所有繞射光都必須參與成像過程，事實上由於物鏡的孔徑有限，高繞射級次光波（相當於物的高空間頻率分量）不能被收集進物鏡，因而在物鏡後焦面上的空間頻譜中也缺少了高頻分量，這些損失了的高頻分量會使像的細節失真。以光柵為例,零級繞射沿光軸傳播,其他繞射級次在零級兩側以各自方向傳播，假若物鏡只收集零級繞射波，則像平面是均勻照明，原光柵物體的週期結構消失；假若收集了零級和兩個正負一級繞射光波，這時像有與物相同的週期結構，但強度分佈被拉平；假若只收集正負二級繞射光波，這時像的細節有很大失真，出現完全虛假的二倍週期結構的像。
