硅片清洗後有水印怎麼辦呢？一起來和小編了解一下吧。
一、硅片清洗後有水印怎麼辦
1、沖洗不乾淨，可以拿一些乾淨的硅片再重新清洗一次，不要過清洗劑槽，看是否有水印出現，若無，則是清洗劑的問題，調整即可。
2、烘乾不夠，將硅片在進入烘乾通道前取出甩幹或吹乾，看是否有水印，如無，則是加大烘乾通道的力度。
3、水中雜質含量過高，造成不易清洗，清除水中的雜質即可。
二、硅片清洗工藝步驟有哪些
吸附在硅片表面上的雜質可分為分子型、離子型和原子型三種情況。其中分子型雜質與硅片表面之間的吸附力較弱，清除這類雜質體子比較容易。它們多屬油脂類雜質，具有疏水性的特點，對於清除離子型和原子型雜質具有掩蔽作用。
因此在對硅片進行化學清洗時，首先應該把它們清除乾淨。離子型和原子型吸附的雜質屬於化學吸附雜質，其吸附力都較強。
在一般情況下，原子型吸附雜質的量較小，因此在化學清洗時，先清除掉離子型吸附雜質，然後再清除殘存的離子型雜質及原子型雜質。
最後用高純去離子水將硅片衝冼乾淨，再加温烘乾或甩幹就可得到潔淨表面的硅片。
綜上所述，清洗硅片的一般工藝程序為：去分子→去離子→去原子→去離子水沖洗。另外，為去除硅片表面的氧化層，常要增加一個稀氫氟酸浸泡步驟。
