光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一，特別是近年來大規模和超大規模集成電路的發展，更是大大促進了光刻膠的研究開發和應用。
印刷工業是光刻膠應用的另一重要領域。1954 年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用於印刷工業的，以後才用於電子工業。 光刻膠是一種有機化合物，它被紫外光曝光後，在顯影溶液中的溶解度會發生變化。硅片製造中所用的光刻膠以液態塗在硅片表面，而後被幹燥成膠膜。
在半導體領域，實現全產業鏈自主生產無比困難，連韓國這個全球第二半導體大國都要陷入“卡脖子”的困境。即使有巨大困難，實現光刻膠這樣的半導體關鍵領域自主生產是完全必要的，只有這樣才能最大程度擺脱“卡脖子”的命運。
2020年，全球光刻膠市場的規模僅為18.33億美元，對於行業規模超4000億美元的半導體行業而言，這樣的份額顯得微不足道。
在整個晶圓製造製造的鏈條中，光刻膠這一環節的規模佔比僅為6%，是主要材料中佔比僅高於濺射靶材的種類。但就是這小小的6%，卻是我們必須爭奪的6%。半導體晶圓製造中，光刻環節最為關鍵。它利用光化學反應原理，承擔着將事先製備在掩模上的圖形轉化到晶圓的重要功能。
